研究了低压化学气相沉积(LPCVD)在毫米级单晶石墨烯生长过程中石墨烯晶粒下Cu丘的演变。 我们观察到随着石墨烯晶粒尺寸的增加,Cu坡度下降的行为。 这表明在接近铜熔点的生长温度下,山丘发生了自扁平化过程。 尤其是一旦石墨烯颗粒融合,山丘几乎就完全被夷为平地。 还研究了石墨烯晶粒的树枝状结构的演变。 已发现,随着CH4流量的逐步增加,树枝状结构中的分支间边界可以得到修复。 拉曼2D谱带的蓝移,其中拉曼采样点从晶粒中心移动到边缘,这证实了由于晶界间边界的愈合,晶体质量得到了改善。
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