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以Ti、Si和石墨粉为原料,以少量的Al为反应助剂,用反应热压(HP)工艺在1450℃和25MPa下2h制得纯度为97%、相对密度为98.45%、粒度为5~10μm的Ti3SiC2多晶块体。其弯曲强度为407MPa、室温电阻率为0.22×10-6Ω?m、维氏硬度为3.97GPa.与Barsoum和Ei_Raghy在1600℃和40MPa下烧结4h获得的样品相比,本样品显示了较低的弯曲强度,基本相同的纯度、电阻率和硬度。
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weixin_38518074
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