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西电集成电路制造技术 氧化PPT学习教案.pptx
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会计学
1
第
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第二章 氧化
SiO
2
作用
:
a.
杂质扩散掩蔽膜和离子注入屏蔽膜
b.
器件表面保护或钝化膜
c. MOS
电容的介质材料
d. MOSFET
的绝缘栅材料
e.
电路隔离介质或绝缘介质
SiO
2
制备:
热氧化;
热分解淀积;
CVD
;阳极氧
化;蒸发法
(
溅射法
)
。
热氧化:
SiO
2
质量好,掩蔽能力强。
第
2
页
/
共
77
页
掺杂阻挡氧化层
氧化层应用
第
3
页
/
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77
页
栅氧化物介电层
G
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氧化层应用
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