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半导体制造技术PPT学习教案.pptx
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会计学
1
半导体制造技术
气相成底膜到软烘
第
1
页
/
共
67
页
3
学习目标:
1
、光刻基本概念,包括工艺描述、
CD
划分、光谱、
分辨率、工艺宽容度等;
2
、负性和正性光刻的区别;
3
、光刻的
8
个基本步骤;
4
、如何在光刻前处理硅片表面;
5
、描述光刻胶并讨论光刻胶的物理特性;
6
、讨论传统
I
线胶的化学性质和应用;
7
、深紫外光刻胶的化学性质和优点,包括化学放大光
刻胶;
8
、解释在硅片制造业中如何应用光刻胶;
9
、讨论软烘的目的,并解释它如何在生产中完成。
第
2
页
/
共
67
页
4
第
3
页
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共
67
页
5
第十三章 光刻:
13.1
引言
第
4
页
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67
页
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