图像转移有两种方法,一种是网印图像转移,一种是光化学图
像转移。网印图像转移比光 化学图像转移成本低,在生产批量大的
情况下更是如此,但是网印抗蚀印料通常只能制造大于 或等于 o .
25mm 的印制导线,而光化学图像转移所用的光致抗蚀剂制造分辨
率高的清晰图 像。本章所述内容为后一种方法。
光化学图像转移需要使用光致抗蚀剂,下面介绍有关光致抗蚀剂的
一些基本知识
1) 光致抗蚀剂:用光化学方法获得的,能抵抗住某种蚀刻液或电镀
溶液浸蚀 的感光材料。
2) 正性光致抗蚀剂:光照射部分分解 ( 或软化 ) ,曝光显影之后,
能把生产用照相底版上透 明的部分从板面上除去。
3) 负性光致抗蚀剂:光照射部分聚合 ( 或交联 ) ,曝光显影之后,
能把生产用照相底版上透 明的部分保留在板面上。
4) 光致抗蚀剂的分类:
按用途分为耐蚀刻抗蚀剂和耐电镀抗蚀剂。
按显影类型分为全水溶性抗蚀剂、半水溶性抗蚀剂和溶剂性抗蚀剂。
按物理状态分为液体抗蚀剂和干膜抗蚀剂。
按感光类型分为正性抗蚀剂和负性抗蚀剂。
图像转移的方法