NaF联合半导体激光照射后牙本质的形态变化分析.pdf

在口腔医学领域，牙齿过敏一直是临床治疗中的一个难题。牙齿过敏，即牙本质过敏，主要因牙本质小管的开放，使得外界温度和化学刺激传导至牙髓，引起疼痛。针对这一问题，近期的研究表明，NaF（氟化钠）联合半导体激光照射可以作为一种新的治疗手段，有效改善牙齿过敏症状。 牙本质是由高度矿化的牙本质小管组成的牙体硬组织，当这些小管暴露于口腔环境中时，就会导致牙齿敏感。为了探索更有效的治疗方法，研究人员采用了NaF联合半导体激光照射技术，旨在通过封闭暴露的牙本质小管来减轻过敏症状。 实验采用离体牙齿样本进行研究。选取合适的牙齿样本，将其切割成一定厚度的牙片，并进行分组，包括对照组和实验组。实验组牙片经过磷酸酸蚀后，涂覆NaF糊剂，并使用特定参数的半导体激光进行照射。激光参数包括波长830nm、功率500mw、频率50Hz、光斑直径3mm、能量密度83.7J/cm²，照射持续时间为2分钟。随后，通过干燥和喷金处理，利用扫描电子显微镜观察牙本质的形态变化。 实验结果显示，经NaF与半导体激光照射处理后，牙本质小管口被有效封闭，形成了向外辐射的熔融结构，距离激光核心越远，熔融程度及结构变化越不明显。此外，激光照射还显著减少了牙本质微裂的发生，特别是在激光集中的区域，未见明显的微裂或凹坑。 这一结论表明，NaF与半导体激光的联合应用不仅能封闭牙本质小管，阻挡外界刺激物的进入，避免过敏反应的发生，还能增强牙本质的抗力性和耐磨性，具有潜在的中长期治疗效果。 文中提到，该研究在医学和药理学方面有坚实的理论基础，引用了世界卫生组织关于药物统计方法学的合作中心提供的资料，以及关于大环内酯类抗生素合理选用的探讨。这些文献为该研究提供了重要的理论支持，增强了研究的科学性和可靠性。 总体而言，这项研究展示了NaF与半导体激光技术在牙科治疗中的新应用潜力。通过科学实验验证了该方法在改善牙齿过敏方面的有效性，为口腔医学领域提供了新的治疗思路，预示着未来可能开发出更高效、更持久的牙齿脱敏方案。这不仅能够帮助提高患者的生活质量，也对口腔医学的发展有着重要的推动作用。因此，深入研究NaF与半导体激光联合应用的机制，以及其在临床中的长期效果，将具有重大的医学价值和社会意义。