本文介绍的是一种工件盘翻转装置的制作方法，该装置主要用于抛光机，特别是针对薄型玻璃、金属、陶瓷等需要单面抛光的零件。传统的双工位翻转抛光机存在工件盘之间的高度误差和平行度误差，导致抛光压力不均匀，影响抛光质量和精度。为解决这一问题，本发明提出了一种新的工件盘翻转装置。
该装置的核心特点是采用可翻转的具有两个工作面的翻转架，以及设置在翻转架上的多组工件盘组件。每组工件盘组件包含一个由恒压驱动装置（恒压气缸）驱动的工件盘，能够沿翻转架上下移动，同时由旋转驱动装置（减速机和工件盘驱动电机）驱动旋转。工件盘采用真空吸附设计，确保与抛光盘紧密接触。恒压气缸的使用保证了每个工件盘在抛光时承受的压力均匀，从而提高抛光质量。
翻转驱动机构由翻转电机、翻转轴组成，翻转轴与翻转架固定连接，两端通过回转轴承安装在机架的升降机构上。翻转电机驱动翻转轴旋转，翻转轴一端设有制动装置，用于翻转到指定位置后固定翻转轴，防止工件盘在抛光过程中意外转动。此外，还有翻转缓冲块和缓冲器，以防止翻转过程中产生过大的冲击，确保装置运行平稳。
此设计的有益效果在于，通过独立的恒压气缸控制每个工件盘的抛光压力，克服了传统设备中因工件盘误差造成的抛光问题，从而实现了抛光压力的均匀分布，提高了抛光精度和工件表面的抛光质量。
附图提供了更详细的结构说明，包括双工位翻转抛光机的整体布局、各个组成部分的连接方式，以及关键部件如工件盘、减速机、驱动电机和恒压气缸的布置等。这样的设计不仅适用于大工业制造环境，也适应于对产品端面进行高效率、高精度抛光的需求。
总结来说，这种工件盘翻转装置的创新之处在于其精密的结构设计和独立的压力控制系统，有效提升了抛光工艺的均匀性和准确性，解决了传统抛光机存在的问题，对于提高抛光质量和效率具有显著的意义。
