一种存储阵列、存储器、制备方法及写入方法与流程
本创造涉及半导体领域,更具体的,涉及一种存储阵列、存储器、制备方法及写入方法。
背景技术:
磁性随机存储器(magneticrandomaccessmemory,mram)由于具有非易失性、抗辐照、低功耗等
优点,引起了学术与工业领域极大的关注。磁性隧道结(magnetictunneljunction,mtj)是磁
性随机存储器 mram 的基本存储单元。mtj 的核心部分由两层磁性金属层和一个夹在两层磁性
金属层之间的势垒层组成。其中一个磁性金属层叫做参考层,它的磁化固定不变。另一个磁性
金属层叫做自由层,它的磁化有两个稳定的取向。mtj 可呈现两种状态,即两层磁性层磁化方
向相互平行(parallel,p)或者相互反平行(antiparallel,ap),使得 mtj 消灭低阻态或高阻
态,这种效应被称为隧穿磁阻效应(tunnelmagnetoresistance,tmr)。mram 存储的基本原理
就是利用隧穿磁阻效应,即凹凸阻态分别表示数据“0”和“1”。
一种类型的 mram 为自旋转移矩磁性随机存储器(spintransfertorquemagnetoresistiveram,
stt-mram)。stt-mram 的写入操作利用自旋转移矩效应翻转自由磁性层的磁化方向;读取操作
通过磁性隧道结的隧穿磁阻效应进行。目前的 stt-mram 写入电流方向在写“0”和写“1”时
相反。stt-mram 写入中,mtj 由平行翻转到反平行,与反平行翻转到平行时的电流大小不全都,
即 stt 翻转的效率不对称。另一方面,对于一晶体管 mtj 的单元,因两种写入电流方向同时存
在,在某种电流方向时,会消灭源级退化现象。这两方面将共同导致 stt-mram 性能下降。此
外 stt-mram 还受 stt 效应固有的翻转时间延迟限制,大大影响了 stt-mram 的写入速度。
另一种类型的 mram 为自旋轨道矩磁性随机存储器(spinorbittorquemagnetoresistiveram,
sot-mram)。sot-mram 的基本单元结构为 mtj、重金属层或铁磁层及两个访问晶体管。mtj 自
下到上为自由层/势垒层/参考层/钉扎层,mtj 的自由层下方为重金属或反铁磁层,流经重金
属或反铁磁层的电流能引发力矩以翻转 mtj 的自由层磁化方向,实现磁写入。在这种技术下,
sot 效应写入解决了写入速度的问题,但由于现有 sot-mram 基本单元结构包括两个访问晶体
管,即写入的晶体管和读取的晶体管,且写入晶体管与读取晶体管宽度相同,难以提高集成密
度。同时,晶体管的源级退化问题照旧存在。