图 2 新型 3-D VRRAM 结构 TEM 图像
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与平面 RRAM 阵列相比,3-D VRRAM 阵列支持对平面上所有被选中的 RRAM 单元
进行并行读写操作,此时阵列中的器件将会受到来自三维空间的叠加热串扰的干扰.并且由
于阵列单元的紧密排列结构,3-D VRRAM 阵列中的存储单元具有更短的间隔距离,热量
积累更加迅速,使阵列中的热串扰效应更加严重.因此,在 3-D VRRAM 架构中,与读写裕
度相比,阵列中的热串扰效应是更加需要考虑的因素.
与传统的电荷型存储器不同,RRAM 通过其电阻的变化来存储数据.当 RRAM 进行数
据存储时,分别用低阻态(Low Resistance State, LRS)和高阻态(High Resistance State, HRS)来
存储“1”和“0”. RRAM 器件的电阻转换机制是通过由氧空位组成的导电丝(Conductive
Filament, CF)的形成和破裂使 RRAM 单元在 LRS 与 HRS 之间进行切换.在电场和热应力共
同作用下的氧空位的迁移在转换中起重要作用,热应力会促使氧离子与氧空位相结合,从
而导致导电细丝(Conductive Filament, CF)断开.在阻态转换的过程中,热量对其的影响尤为
重要,当导电细丝断裂时会产生大量的热量,而过高的热量会阻碍临近 RRAM 器件的导电
丝生成过程,导致写入失败,这种效应被称为 RRAM 的热串扰效应(Thermal Crosstalk
Effect)
[11]
,如图 3 所示.
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