动态椭偏光谱技术及其在薄膜测量中应用的研究 (2005年)

文章介绍了动态反射式椭圆偏振光谱技术的原理，采用椭圆偏振光谱技术测量得到P型Si(111)晶片，利用直流溅射制备的不同厚度Cu膜样品的椭偏光谱；利用特定的解谱程序并结合实验参数，对椭偏光谱进行解谱得到了样品的光学常数谱及其厚度；对于P型Si(111)晶片的光学常数谱，通过与Palik数据比较可以发现两者极为相似，只是在数值上存在差异；对于不同厚度的Cu膜样品，从晶粒尺寸、致密度和缺陷等方面分析了光学常数随厚度变化的原因；通过分析比较得知，经过拟合计算得到的P型Si(111)晶片和Cu膜样品的光学常数具有很