通过真空镀膜法在单晶硅片上制备了一种新的亚酞菁(三硝基溴硼亚酞菁)薄膜。利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱,测量了其复折射率、复介电常数和吸收系数,估算了薄膜在窗口区域的俘获能级并对其吸收谱的成因作了分析。
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