PCB制造工艺(Technology)中,无论是单、双面板及多层板(MLB),最基本、最关键的工序之一是图形转移,即将照相底版(Art-work)图形转移到敷铜箔基材上。图形转移是生产中的关键控制点,也是技术难点所在。其工艺方法有很多,如丝网印刷图形转移工艺、干膜图形转移工艺、液态光致抗蚀剂图形转移工艺、电沉积光致抗蚀剂(ED膜)制作工艺以及激光直接成像技术。 印制电路板(PCB)制造工艺中,油墨选用是一项至关重要的环节,因为它直接影响到图形转移的质量和生产效率。图形转移是PCB制造过程的核心步骤,它涉及到将设计的电子蓝图,即照相底版(Art-work)的图形精确地转移到覆铜箔基材上。这一过程对精度要求极高,因为任何微小的偏差都可能导致电路功能失效。 在众多的图形转移工艺中,液态光致抗蚀剂(Liquid Photoresist)图形转移工艺因其诸多优点而备受青睐。液态光致抗蚀剂不需要制作丝网模板,通过底片接触曝光成像,减少了传统丝网印刷可能出现的缺陷,如渗透、污点、阴影和图像失真,从而提高了解像度。此外,由于其光固化反应形成膜层,与基板的贴合性、结合性和抗蚀性均优于传统油墨。 液态光致抗蚀剂的涂布方式灵活,工艺操作性强,便于掌握。它能够填充铜箔表面的微小缺陷,提供更薄的膜层(5~10微米),显著提高图形的解像度和清晰度。相比于干膜,湿膜的抗起翘性能更好,防止了电镀渗镀问题,同时允许在涂覆到显影之间有更长的搁置时间,有利于优化生产流程。 此外,湿膜适用于化学镀镍金工艺,耐受镀金液,特别适合于挠性板的制作,其柔韧性佳。成本方面,湿膜的物料成本更低,没有干膜的聚酯盖膜和聚乙烯隔膜,减少了浪费,节约成本可达30~50%。在存储上,湿膜要求温度保持在20±2℃,湿度55±5%,并需避光密封保存,保质期通常为4~6个月。 然而,湿膜在厚度均匀性和烘干程度控制上存在挑战,可能需要更精细的操作。同时,其成分挥发可能对环境和操作人员造成潜在危害,因此工作场所必须确保良好的通风条件。 在实际应用中,液态光致抗蚀剂如GSP1550和APR-700等,通常是蓝色的粘稠液体,通过网印方式进行涂覆,并使用碱性溶液显影,酸性或弱碱性蚀刻液进行蚀刻。其使用寿命受限于操作环境和时间,理想的条件是温度不超过25℃,湿度不超过60%,在无尘室黄光环境下操作,使用寿命一般为3天,建议在24小时内使用完毕。 液态光致抗蚀剂在PCB制造中的应用,凭借其高分辨率、良好的工艺性和成本效益,已经成为替代传统干膜图形转移工艺的重要选择。然而,正确选择和使用液态光致抗蚀剂,以及优化相关工艺参数,对于确保PCB的质量和生产效率至关重要。
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