文章主要讲述了关于一种高效全蚀刻二元闪耀光栅近垂直耦合器的设计。这是一种新型的光学耦合器，它可以通过一个全蚀刻间距来实现高效地从纤维到波导的耦合。这种耦合器的耦合效率非常高，对于横向电极化入射光，从光纤到波导的耦合效率分别达到了59.2%和76.9%。此外，它还具有33nm的3dB带宽，从1546到1579nm。
文章首先介绍了亚波长微结构光栅在集成光学系统中的重要性，特别是二元闪耀光栅在特定顺序下的高衍射效率。Junbo Feng等人已经展示了使用二元闪耀光栅耦合器的偏振分束器，具有高耦合效率和良好的消光比。然而，所有这些研究都集中在对波导或包覆层进行浅蚀和倾斜槽蚀刻，这在制造过程中存在蚀刻停止层难以控制的问题。Bernd Schmid等人提出了一个全蚀刻槽的光栅耦合器，并获得了理论上的最大耦合效率为49%，带宽为35nm。由于全蚀刻槽中折射率对比的强周期性扰动，很难将光耦合到光栅中，这导致了全蚀刻光栅耦合器的效率低。
此外，大多数提到的耦合器都具有相对较大的入射角度，这在集成光学应用中并不总是可用，或者在光学系统设计中需要增加额外的复杂性。在本文中，作者提出了一种新型的高效二元闪耀光栅近垂直耦合器，该耦合器可以通过一个蚀刻步骤与SOI（硅基绝缘体）组件集成制造。数值模拟还显示，蚀刻深度的容忍度为19nm，入射角度的容忍度为6.5度。
文章中还提出了二元光栅、全蚀刻、光栅耦合器等关键词。这表明，这种新型耦合器的设计和制造是当前集成光学领域的一个重要研究方向。通过对全蚀刻二元闪耀光栅的研究，可以进一步提高光学耦合器的性能，为未来的光学系统设计提供更多可能性。
文章介绍了一种新型的高效全蚀刻二元闪耀光栅近垂直耦合器的设计，该设计具有高耦合效率和宽频带宽度的优点。这种耦合器的出现，将为集成光学系统的制造和应用带来更多的便利和可能。通过对全蚀刻二元闪耀光栅的研究，可以进一步提高光学耦合器的性能，为未来的光学系统设计提供更多可能性。
