本文介绍了在柔性塑料基板上制作亚波长双层金属线栅偏光片的制备工艺，并描述了利用所提出的方法制备的偏光片性能特征。所制成的偏光片周期为278nm，并采用了纳米压印光刻技术和后续的铝沉积工艺。在可见光范围内，当偏光片的铝层厚度为70nm时，其透射效率超过0.55，消光比超过32dB。在使用六通道传感器原型的偏振分析仪测试中，平均误差为0.2002度，最大误差为1.105度，标准偏差为0.7255度。所提出的制备工艺适用于光学领域的多种应用，包括复合眼结构的制造。
知识点详细说明：
1. 亚波长双层金属线栅偏光片（Subwavelength Bilayer Metal Wire-Grid Polarizers）：这类偏光片在光学器件中十分重要，它们能够通过线栅结构对光波进行偏振，只允许特定方向的电场振动通过。在自由空间光开关网络、光纤网络、读写磁光数据存储系统、基于偏振的成像系统、集成视觉传感器和陀螺仪系统、惯性导航系统等众多领域中发挥着关键作用。
2. 纳米压印光刻技术（Nanoimprint Lithography）：这是一种纳米级的制造工艺，通过机械压缩的方法将一个预先设计好的模板图案压印到基板表面的聚合物薄膜上。相较于传统的光刻技术，纳米压印技术具有成本较低、精度高、适合大规模生产等优点。在柔性基板材料上实现亚波长尺寸的线栅结构，纳米压印光刻技术是理想的选择。
3. 柔性塑料基板（Flexible Plastic Substrates）：在柔性电子领域中，塑料基板提供了一种可以弯曲和拉伸的材料，这使得偏光片的用途更加广泛。柔性塑料基板具有重量轻、耐用性高和易于加工等优点，能够满足未来电子设备对于灵活性和便携性的需求。
4. 透射效率（Transmission Efficiency）：这是衡量偏光片性能的重要参数之一，指通过偏光片的光线强度与入射光线强度的比值。高透射效率意味着更多的光能通过偏光片，有利于保持系统的亮度和图像清晰度。
5. 消光比（Extinction Ratio）：指在偏光片中，能够透过偏振方向的光强与不能透过偏振方向的光强的比值。高消光比意味着偏光片对光的偏振控制能力更强，有助于提高图像的对比度和色彩饱和度。
6. 铝沉积（Aluminum Deposition）：在偏光片制造过程中，通常需要在基板上沉积一层金属膜。铝因其良好的导电性和反射性，常被用于形成线栅结构。在这个过程中，沉积的厚度会影响偏光片的透射效率和消光比。
7. 六通道传感器原型（Six-Channels Sensor Prototype）：文中提到的传感器原型可能是一种用于测试偏光片性能的装置，它能够提供多个信号通道来分析偏光片的特性。这有利于更准确地评估偏光片在不同条件下的性能表现。
本文的技术研究内容对于光学器件的制造技术具有重要的推动作用，特别是在实现高性能偏光片的低成本制备方面。研究结果不仅提高了偏光片的性能，还拓宽了其在各类光学系统中的应用范围，对于光学和电子工程领域的科研和技术发展具有重要的意义。
