射频溅射ZrO_2薄膜的摩擦学特性 (1992年)

利用磁控射频反应溅射方法制备了ＺｒＯ２薄膜。分析了工艺对薄膜结构的影响，结构与摩擦学特征的关系。研究表明，氧分压和基片温度是影响薄膜结构，从而影响其摩擦学特性的关键因素。