沉积参数对Mo-Re 合金基体上沉积金刚石薄膜的影响 (2011年)

采用热丝化学气相沉积法(HFCVD),以甲烷和氢气为反应气体,在综合性能良好的 Mo-40%Re(摩尔分数) 合金基体上沉积金刚石薄膜。采用 X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)和显微激光拉曼光谱仪 (Raman)分别对金刚石薄膜相组成、表面形貌、晶粒大小和质量等进行检测分析,研究 CVD沉积参数,如基体温度(θs)、碳源浓度(R,CH4 的体积分数)和沉积压强(p),对金刚石形核、生长和金刚石成膜的影响。结果表明:在合适的基体预处理条件下,当θs=750℃,R=3%,p=3.5