利用磁控溅射的方法成功制备Ti 掺杂类石墨碳(Ti?GLC)膜。采用拉曼光谱、X 射线光电子谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、纳米压痕仪和球盘式摩擦机分别表征不同Ti 靶电流下制备的Ti?GLC膜的成分、结构和性能。随着Ti 靶电流的增加，薄膜中sp2 键的比率和Ti 含量增加，同时薄膜的硬度和内应力也增大，但较高的Ti 靶电流将会促使薄膜产生鳞片状结构从而使其变疏松。较少的Ti 掺入量可以降低GLC 膜的干摩擦因数，纯GLC 膜在水润滑条件下的摩擦因数最低。在较低Ti 靶电
