脉冲喷射电沉积纳米晶镍镀层的工艺优化* (2008年)

为了在硫酸盐体系中得到工艺稳定、光亮、硬度高的纳米晶镍镀层，进行了4因素（电流密度、喷速、脉冲频率和占空比）3水平正交试验。优选出制备微观结构镀层的最佳的工艺条件是：喷速1000L/h，电流密度20.4A/dm2，占空比40%，脉冲频率1000Hz；制备硬度镀层的最佳的工艺条件是；电流密度15.3A/dm2，占空比40%，喷速1400L/h，脉冲频率1000Hz。分析了各因素对镀层晶粒尺寸和硬度的影响。结果表明，电流密度对镀层质量影响较大，而选择合适的喷速使镀层具有优异的硬度和比较小的晶粒尺寸。