活性屏离子氮化机理的研究 (2004年)

在真空室内放置一个铁制的网状圆筒，并与直流高压电的负极相接，在直流电场的作用下，通过气体离子对圆筒的轰击溅射，产生了一些纳米数量级的活性粒子，利用这些高活性的纳米粒子簇可以对放置在圆筒内钢的表面进行氮化处理。实验证明，这些活性粒子是中性的Fe4N粒子，所以被处理的工件既可以处于悬浮电位，也可以处于零电位。活性屏离子氮化可以获得和普通直流离子氮化同样的处理效果，并解决了离子氮化技术的不足。