超疏水透明涂层的模板沉积法制备及表征 (2014年)

在常温常压下,以纳米炭粉为模板剂,利用正硅酸四乙酯(TEOS)在玻璃片表面进行化学气相沉积,经十六烷基三甲氧基硅烷(CTMS)改性处理制得超疏水透明涂层。采用静态接触角(CA)、傅里叶交换红外光谱仪(FTIR)、紫外光谱仪(UV)、热分析仪(TGA)、交叉极化硅核磁共振谱仪(29Si CP MAS NMR)、X线光电子能谱仪(XPS)和透射电子显微镜(TEM)进行分析和表征。结果表明:TEOS的沉积时间对疏水涂层的接触角、滑动角及透光性均有一定的影响,最佳沉积时间为6 h,接触角高达166