使用金属钛作靶材，利用中频反应磁控溅射方法在玻璃基底上制备了TiO2薄膜。为使反应溅射的工作点能够稳定在“过渡区”，使薄膜获得理想的化学配比和较高的沉积速率，使用了等离子体发射光谱监控法（PEM）对溅射过程进行控制。利用台阶仪测膜厚，用X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计以及光学薄膜测试分析仪等手段对TiO2薄膜的结构以及光学性能进行表征，研究了不同工艺条件对薄膜结构和光学性能的影响。结果表明，较高的PEM工作点下制备的TiO2薄膜具有较高的折射率，使用PEM控制的中频反应磁控溅射方法可以制备出性能良好
