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半导体制程技术导论Chapter7等离子体工艺.pptx
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1
Chapter 7
等离子体的基础原理
2
目标
列出至少三种使用等离子体的
IC
制程
列出等离子体中重要的三种碰撞
描述平均自由程
解释等离子体在蚀刻和化学气相沉积制
程的好处
说出至少两种高密度等离子体系统
3
讨论的主题
什么是等离子体
?
为什么使用等离子体
?
离子轰击
等离子体制程的应用
4
等离子体制程的应用
化学气相沉积
蚀刻
物理气相沉积
离子注入
光刻胶剥除
制程反应室的的干式
清洗
5
等离子体是什么
?
具有等量的正电
荷和负电荷的离子
气体
更精确的定
义
:
等
离子体就是具有等
量带电性
与中性粒子的气
体,等离子体本身
就是这些例
子的集体行为
例如
太陽
,
电弧等
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