T-ZnO_w-TiO_2_PMMA复合半导体膜的制备及其光催化性能的研究.pdf

标题和描述中提到的是关于"T-ZnO_w-TiO_2_PMMA复合半导体膜"的研究，这是一种由四针状氧化锌晶须(T-ZnO)、锐钛矿型二氧化钛(TiO2)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)组成的纳米复合材料。这种复合膜在光催化性能方面表现出优越的活性，特别适用于光催化降解污染物，如亚甲基蓝。 四针状氧化锌晶须(T-ZnO)是通过将经过去离子水处理和陈化的锌粉与沸石混合后，在950℃下煅烧制得。这种特殊形貌的ZnO具有较高的比表面积和独特的光学特性，有利于提高光催化效率。SEM（扫描电子显微镜）、TEM（透射电子显微镜）和XRD（X射线衍射）等技术用于表征T-ZnO的形态和晶体结构，而UV-Vis（紫外-可见光谱）则用于分析其可见-紫外光特性。 接着，T-ZnO被掺杂到TiO2中，形成了T-ZnO-TiO2复合材料。TiO2是一种常见的半导体材料，以其优异的光催化性能而闻名，尤其在环境保护领域应用广泛。将这种复合材料负载在PMMA薄膜上，形成T-ZnO-TiO2/PMMA复合半导体膜。PMMA作为聚合物基质，为半导体材料提供了稳定的支撑平台，并可能改善其光催化活性和稳定性。 实验结果显示，T-ZnO-TiO2/PMMA纳米复合材料相对于单一的ZnO/PMMA和TiO2/PMMA膜，显示出更高的光催化活性。在紫外光照射60分钟后，亚甲基蓝的降解率高达98%，这表明该复合膜在环境污染治理，特别是有机染料降解方面具有巨大的潜力。 这项研究对半导体材料的合成、结构表征以及光催化性能评估提供了详尽的信息，对于理解光催化过程中的机理，优化材料设计以及开发高效光催化剂有重要意义。同时，这些结果可以为导体技术和导体研究提供有价值的参考，有助于推动相关领域的技术进步和发展。