典型光电行业用超纯水设备工艺

典型光电行业用超纯水设备工艺 在光电行业中，超纯水设备工艺是非常重要的一環，它们为制造LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路等提供了高纯水和超纯水的需求。为满足这些需求，超纯水设备工艺必须具有高的自动化程度、稳定的系统稳定性、高的水利用率和经济合理性。 典型光电行业用超纯水设备工艺的过程可以分为预处理系统、反渗透系统、中间水箱、粗混合床、精混合床、纯水箱、纯水泵、紫外线杀菌器、抛光混床、精密过滤器等几个部分。这些部分通过PLC+触摸屏控制，实现了全套系统的自动化程度高和系统稳定性高。 预处理系统是整个超纯水设备工艺的第一步骤，它的目的是去除水中的悬浮物、杂质等，以确保水的纯度。反渗透系统是第二步骤，它利用semipermeable膜将水中的盐分和其他杂质去除，得到高纯度的水。中间水箱是将处理后的水暂存起来，以便后续的处理过程。 粗混合床和精混合床是将水中的杂质进一步去除，以提高水的纯度。纯水箱和纯水泵是将处理后的水暂存起来，并将其输送到后续的处理过程中。紫外线杀菌器是将水中的细菌和病毒杀灭，以确保水的洁净度。抛光混床和精密过滤器是将水中的杂质最后去除，以得到高纯度的水。 在实际应用中，典型光电行业用超纯水设备工艺可以有多种不同的工艺流程。例如，预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM），预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM），等等。 这些工艺流程可以根据具体的需求和应用场景进行选择和设计，以满足不同的光电行业的需求。例如，在制造LCD液晶显示屏时，需要高纯度的水来清洁显示屏的表面，而在制造微电子工业时，需要超纯水来清洁微电子元件的表面。 典型光电行业用超纯水设备工艺是满足光电行业的高纯水和超纯水需求的重要手段，它们可以提供高纯度的水，满足光电行业的制造需求，并且可以大大节省人力成本和维护成本，提高生产效率和产品质量。