中频离子电源的技术规格参数，用于硅晶镀膜及光伏处理工艺

TruPlasma DC Series 4000 (G2) 是一款用于反应溅射过程的设备，它专门设计用于处理困难的材料。无论是PVD（物理气相沉积）还是PECVD（等离子增强化学气相沉积），这款设备都能在关键的工业等离子过程中证明其价值。这些过程包括太阳能电池制造、半导体生产和硬涂层应用。 该设备的输出功率范围从10到200千瓦（可堆叠），能够在广泛的负载阻抗范围内提供最大功率。快速的DSP控制保证了稳定的处理过程和低的电弧时间相关的损失。 TruPlasma DC Series 4000 (G2)结合了TRUMPF Hüttinger出色的电弧管理和DC脉冲技术的优点。因此，在关键的涂层过程中，可以获得更少的液滴和更低的基片损坏。与固有的非常低的储存能量相结合，这大大提高了整体过程质量和生产吞吐量。 主要优点包括：高薄膜质量和生产产量，稳定的等离子体和低的电弧相关时间损失，易于适应不同的工艺要求，具有广泛的应用范围，以及快速、简单的工艺优化。同时，其尺寸紧凑，易于系统集成。