紫外光刻

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紫外光刻

: 极紫外光刻离轴照明技术研究离轴照明技术(OAI)是极紫外光刻技术中提高光刻分辨率的关键技术之一。为了实现考虑掩模阴影效应情况下离轴照明的优化选择，构造了一种新型实现OAI曝光的成像模型。将照射到掩模上的非相干光等效为一系列具有连续入射...
评级：0 浏览量：126 收藏量：0 资源大小：1.98MB 上传时间：2021-02-06

: 极紫外光刻投影物镜波像差在线检测技术投影物镜波像差在线检测技术是极紫外光刻(EUVL)实现32 nm及其以下技术节点的关键技术,对于光刻机的整机集成具有重要研究意义和实用价值。介绍了目前国际上极紫外光刻投影物镜波像差在线检测技术的最新研究进展以及几...
评级：0 浏览量：79 收藏量：1 资源大小：1.06MB 上传时间：2021-02-10

: 可用于极紫外光刻的三线毛细管的概念设计极紫外光刻(EUVL)技术是目前193 nm浸没式光刻技术的延伸,有望突破30 nm或更小技术节点而成为下一代光刻(NGL)技术的主流。毛细管放电极紫外(EUV)光源可为极紫外光刻研究提供高效、便捷的光刻源头,但光源的辐射功率较...
评级：0 浏览量：79 收藏量：0 资源大小：739KB 上传时间：2021-02-13

: 极紫外光刻物镜分组可视化界面设计优化高数值孔径(NA)、大视场极紫外光刻物镜光学系统是实现22 nm及以下技术节点产业化光刻系统的关键部件。通过对光刻物镜系统结构的分析，利用可视化对其初始结构进行分组构造。并在此基础上采用一种渐近式NA 方法获得了...
评级：0 浏览量：61 收藏量：0 资源大小：3.62MB 上传时间：2021-02-07

: 极紫外光刻 极紫外光刻
评级：0 浏览量：94 收藏量：0 资源大小：1.8MB 上传时间：2021-02-11

: 用于极紫外光刻非球面光学元件检测的补偿器检测系统为了实现极紫外光刻(EUVL)投影物镜光学元件均方根(RMS)0.2~0.3 nm的面形检测精度要求，研究了超高精度光学元件检测方法。采用误差分解控制方法，设计了非球面补偿器检测系统。补偿器由提供透射球面波的前组元件及...
评级：0 浏览量：132 收藏量：0 资源大小：3.43MB 上传时间：2021-02-05

: 极紫外光刻机光源技术极紫外光刻机光源技术
评级：0 浏览量：190 收藏量：0 资源大小：728KB 上传时间：2021-02-10

: 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究 16 nm极紫外光刻(EUVL)物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给EUVL系统热管理提供可靠的技术依据, 对数值孔径为0.33且满足16 nm技术节点的典型EUVL物镜进行热变形仿真研究。采用有限元软件ANSYS仿真...
评级：0 浏览量：68 收藏量：0 资源大小：6.42MB 上传时间：2021-02-22

: 基于机器学习校正的极紫外光刻含缺陷掩模仿真方法提出了一种基于机器学习参数校正的极紫外光刻三维含缺陷掩模仿真方法。本方法采用随机森林、K近邻等机器学习方法，对基于结构分解法的含缺陷掩模衍射谱快速仿真模型的参数进行动态校正，提高了模型的精度及适应性。...
评级：0 浏览量：124 收藏量：0 资源大小：4.9MB 上传时间：2021-01-26

: 应用传统紫外光刻机进行紫外压印通过对该技术的研究，我们筛选了一种较为适合紫外压印技术的紫外固化胶，同时利用传统紫外光刻机实现了套刻对准功能。在实验中，制备了具有100 nm特征尺寸的5 cm×5 cm面积石英玻璃透明模板，并且成功转移复制了模板...
评级：0 浏览量：130 收藏量：0 资源大小：86KB 上传时间：2020-11-26

: 基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型建立了一个基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型。通过等效膜层法求解含缺陷多层膜无缺陷区域和含缺陷区域不同位置的反射系数，准确快速地仿真含缺陷多层膜的衍射谱。与波导法严格仿真相比，200 nm ...
评级：0 浏览量：92 收藏量：1 资源大小：4.21MB 上传时间：2021-03-02

: 美国发展紫外光刻 美国发展紫外光刻
评级：0 浏览量：32 收藏量：0 资源大小：221KB 上传时间：2021-02-11

: 深紫外光刻投影物镜温度特性研究透镜材料对激光能量的吸收导致深紫外光刻投影物镜温度升高，产生热像差。离轴照明模式下，温度呈非对称分布，研究温度场对热像差的仿真预测和补偿具有十分重要的意义。提出了温度分布函数模型描述4种照明模式下物镜...
评级：0 浏览量：128 收藏量：0 资源大小：7.86MB 上传时间：2021-02-07

: 极紫外光刻研制进展极紫外光刻研制进展
评级：0 浏览量：44 收藏量：0 资源大小：2.06MB 上传时间：2021-02-11

: 高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统设计针对极紫外光刻照明系统光能利用率低的问题，设计了一套高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统。该系统中波纹板面形采用柱面镜阵列，降低了加工难度；并且根据波纹板反射光线的特性，确定了由修正型复合抛物面聚光镜...
评级：0 浏览量：52 收藏量：0 资源大小：2.56MB 上传时间：2021-02-04

: 超大数值孔径极紫外光刻物镜的公差分析超大数值孔径极紫外光刻物镜(NA>0.45)能够满足11 nm 光刻技术节点的需求，而高分辨率成像对物镜系统的公差要求非常严格。针对一套数值孔径为0.50 的极紫外投影物镜进行了补偿器选择和制造公差分析。通过对系统敏感...
评级：0 浏览量：149 收藏量：1 资源大小：2.2MB 上传时间：2021-02-23

: 32 nm节点极紫外光刻掩模的集成研制报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6 inch(1 inch=2.54 cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32 nm节点6 inch标准极紫外光刻掩模的设计方案，及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究，对缺陷控制及提高掩模...
评级：0 浏览量：70 收藏量：0 资源大小：4.54MB 上传时间：2021-02-08

: 紫外光刻机说明书 紫外光刻机使用及维护指南。感谢您购买本所设备，使用前请仔细阅读本说明书！
评级：0 浏览量：715 收藏量：4 资源大小：3.08MB 上传时间：2019-01-10

: 50 nm分辨力极端紫外光刻物镜光学性能研究极端紫外光刻(EUVL)作为实现100～32 nm特征尺寸微细加工的优选技术，其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODE V对6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能分析，其分辨力可以...
评级：0 浏览量：51 收藏量：0 资源大小：1.19MB 上传时间：2021-02-10

: 极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究开展了动态气体锁抑制率的实验研究，设计了一套极紫外真空动态气体锁实验验证系统；进行了真空抽气系统的详细设计，形成了具有...该动态气体锁抑制率实验研究结果，能够为极紫外光刻机动态气体锁的研制提供实验依据。
评级：0 浏览量：62 收藏量：0 资源大小：7.19MB 上传时间：2021-02-04

: 极紫外光刻物镜补偿器的选择及定位精度分析针对一套数值孔径0.33 的极紫外光刻物镜，进行了补偿器的优选和定位精度分析。根据结构参量对系统波像差的灵敏度并结合各结构参量之间的相关性选择了6个像质补偿器，并分析了非补偿器结构参量的公差。在此基础上，...
评级：0 浏览量：70 收藏量：0 资源大小：2.65MB 上传时间：2021-02-07

: 16~22 nm极紫外光刻物镜工程化设计极紫外光刻是16~22 nm光刻技术节点的候选技术之一，其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下，兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下，设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26 mm...
评级：0 浏览量：65 收藏量：0 资源大小：4.51MB 上传时间：2021-02-08

: 基于变量分离分解法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法提出了一种基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模衍射谱快速仿真方法, 在保证一定仿真精度的前提下提高了仿真速度。该方法将三维掩模分解为2个相互垂直的二维掩模, 对2个二维掩模采用严格电磁场方法进行衍射谱仿真并将...
评级：0 浏览量：89 收藏量：1 资源大小：9.67MB 上传时间：2021-02-04

: 组合倍率极紫外光刻物镜梯度膜设计 10 nm以下光刻技术牵引极紫外(EUV)光刻物镜向超高数值孔径(NA)、组合倍率设计形式发展, 物镜系统的入射角和入射角范围因此急剧增大, 传统规整膜和横向梯度膜难以满足该类物镜系统反射率及像质要求。为此, 提出了横纵...
评级：0 浏览量：92 收藏量：1 资源大小：7.29MB 上传时间：2021-02-04

: 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型建立了一个极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型，采用相位突变和反射系数振幅衰减表示缺陷对多层膜反射光的影响，得到了含缺陷多层膜衍射谱的解析表达式。简化模型中，相位突变量由多层膜表面以下第6层膜的...
评级：0 浏览量：77 收藏量：0 资源大小：4.34MB 上传时间：2021-02-05

: 极紫外光刻快速掩模优化方法.docx 极紫外光刻快速掩模优化方法.docx
评级：0 浏览量：35 收藏量：0 资源大小：1.46MB 上传时间：2023-02-23

: 极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究以清洁气体种类和流量以及污染气体放气率为变量, 进行了单组分清洁气体的动态气体锁(DGL)流场仿真, 并以混合清洁气体的体积比为变量进行了多组分清洁气体DGL流场仿真。...该仿真结果为研制极紫外光刻机DGL提供了依据。
评级：0 浏览量：54 收藏量：0 资源大小：5.05MB 上传时间：2021-02-07

: 22 nm极紫外光刻物镜热和结构变形及其对成像性能影响极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22 nm及其以下节点的下一代光刻技术。在曝光过程中，EUVL物镜的每一面反射镜吸收35%～40%的入射极紫外（EUV）能量，使反射镜发生热和结构变形，影响投影物镜系统的成像性能。...
评级：0 浏览量：88 收藏量：0 资源大小：5.17MB 上传时间：2021-02-03

: 深紫外光刻照明系统的微反射镜阵列公差分析为满足45 nm及其以下节点光刻技术对照明系统的需求,将深紫外光刻照明系统的光束整形单元所采用的微反射镜阵列(MMA)作为关键器件,以实现满足光源-掩模联合优化(SMO)技术需求的任意照明光源。根据MMA结构参数和加工...
评级：0 浏览量：83 收藏量：0 资源大小：5.94MB 上传时间：2021-01-26

: 极紫外投影光刻物镜设计极紫外投影光刻用14 nm波长的电磁辐射，可以在实现高分辨率的同时保持相对较大的焦深，有希望成为制造超大规模集成电路的下一代光刻技术。极紫外投影光刻工作于步进扫描方式，采用全反射、无遮拦、缩小的环形视场...
评级：0 浏览量：114 收藏量：1 资源大小：895KB 上传时间：2021-02-10

: 极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si 多层膜设计与制备针对极紫外光刻照明系统中一块小尺寸反射镜大入射角带宽的需求，采用Si层有效厚度与公转速度关系式和多层膜周期厚度与公转速度关系式，完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作。在磁控溅射镀膜机上制备了一系列...
评级：0 浏览量：79 收藏量：0 资源大小：2.16MB 上传时间：2021-02-23

: 极紫外光刻含缺陷掩模仿真模型及缺陷的补偿建立了一个基于单平面近似的极紫外(EUV)光刻三维含缺陷掩模的快速仿真模型。该仿真模型中，采用相位突变和振幅衰减表示缺陷对多层膜的反射系数的影响，吸收层模型采用薄掩模修正模型。以22 nm 三维接触孔图形为例，...
评级：0 浏览量：84 收藏量：0 资源大小：3.77MB 上传时间：2021-02-13

: 宽带折反射式紫外光刻物镜的设计本文设计了一种新系列的紫外或远紫外激光光刻物镜,它与国内外已有的紫外物镜相比,在365nm以下的光谱区,具有更宽的光谱工作带宽和较高的数值孔径.以宽带准分子激光或短弧汞氙灯做光源,无需另加色散补偿光学元件,可以...
评级：0 浏览量：45 收藏量：0 资源大小：945KB 上传时间：2021-02-10

: 基于Ptychography的极紫外光刻投影物镜波像差检测技术 Ptychography是一种基于扫描式相干衍射成像的相位恢复技术，实验装置简单，抗干扰能力强。将Ptychography技术用于投影物镜波像差的检测，并分析了...将Ptychography技术应用于极紫外光刻投影物镜波像差检测是可行的。
评级：0 浏览量：229 收藏量：0 资源大小：16.62MB 上传时间：2021-02-07

: 碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响极紫外光刻系统中的碳污染会降低多层膜反射率，在保证光学元件性能的前提下，如何选择碳清洗工艺是一项重要课题。通过对不同清洗工艺的原理分析，揭示了不同工艺对多层膜反射率的影响主要体现在膜层氧化、刻蚀及表面...
评级：0 浏览量：95 收藏量：0 资源大小：3.21MB 上传时间：2021-02-07

: 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法对极紫外光刻掩模的吸收层和多层膜分别建模, 将二者组合以实现对具有复杂图形分布的掩模衍射谱的快速精确仿真。对存在图形偏移的吸收层, 采用扩展的边界脉冲修正法进行仿真。对无缺陷及含缺陷的多层膜, 分别采用等效...
评级：0 浏览量：67 收藏量：0 资源大小：10.36MB 上传时间：2021-02-04

: 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用极紫外光刻投影系统中高反膜厚度一般约300 nm，远大于13.5 nm的工作波长，光能并不能完全穿透膜层入射到基底，从而引入数倍于波长的额外光程差，降低系统成像质量。从能量调制的角度提出了一种基于能量守恒定律的...
评级：0 浏览量：88 收藏量：1 资源大小：3.91MB 上传时间：2021-02-05

: 准分子激光器能有效地对有机玻璃作深紫外线光刻已证明大功率脉冲紫外光可对聚甲基丙烯酸甲脂（PMMA)进行光刻。用KrF准分子激光器作大功率紫外光源。深紫外光辐照所得到的蚀刻深度不但与能量有关还与功率有关。相同的曝光能量密度下，加大曝光功率密度蚀刻深度将...
评级：0 浏览量：66 收藏量：0 资源大小：1.33MB 上传时间：2021-02-08

: 深紫外光刻照明系统扩束单元设计在曝光线宽为90 nm的投影光刻机中，准分子激光光源发出的矩形截面光束，需要进行一维扩束，以获得光束整形单元所需的正方形截面分布。现有的这类扩束单元分别存在严重的相干散斑效应和严格的装调公差等不足。基于此...
评级：0 浏览量：80 收藏量：0 资源大小：5.58MB 上传时间：2021-02-09

: 极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究从理论上系统性地研究了动态气体锁抑制率，提出了动态气体锁理论分析模型。通过理论分析推导出单组分和多组分清洁气体在...该动态气体锁抑制率理论研究体系，能够为极紫外（EUV）光刻机动态气体锁的研制提供理论依据。
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：3.9MB 上传时间：2021-02-06

: 显示/光电技术中的光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日，中国科学院光电技术研究所为适应市场需求，成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机，并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高，汞灯...
评级：0 浏览量：253 收藏量：0 资源大小：33KB 上传时间：2020-11-28

: 光学系统像差对极紫外光刻成像特征尺寸的影响 13.5 nm波长极紫外(EUV)光刻机的分辨率虽然很高,但因波长的减小使其对像差的容忍度降低,有必要研究像差对EUV光刻成像的影响。针对四类典型像差的波前特征,选取对像差最敏感的四种测试图形,研究像差对光刻成像特征...
评级：0 浏览量：91 收藏量：0 资源大小：10.78MB 上传时间：2021-02-06

: 32nm节点极紫外光刻掩模的集成研制 32nm节点极紫外光刻掩模的集成研制
评级：0 浏览量：53 收藏量：0 资源大小：1.12MB 上传时间：2021-03-30

: 提高深紫外光刻照明系统扩束单元光束均匀性的方法在曝光线宽为90 nm节点的投影光刻机照明系统中，针对准分子激光光源扩束后出射光束均匀性较差的问题，用高斯光束边缘叠加能够提高均匀性的原理对反射式扩束单元进行了分析。结果表明，平行反射式扩束单元出射光束...
评级：0 浏览量：104 收藏量：0 资源大小：3.87MB 上传时间：2021-02-09

: 开发技术-硬件-紫外光刻法制备图案化的低维纳米结构陈列.zip 开发技术-硬件
评级：0 浏览量：17 收藏量：0 资源大小：3.16MB 上传时间：2022-04-11

: 248+nm深紫外光刻胶 248+nm深紫外光刻胶；248+nm深紫外光刻胶学术论文
评级：0 浏览量：99 收藏量：0 资源大小：316KB 上传时间：2012-11-03

: 同步辐射光刻用的极紫外光源讨论以极紫外(EUV,此处分别指13.5rm或11.3nm)为基础的下一代光刻用同步辐射作为光源的可能性.要求是:50W,2%带宽和这一带宽外功率最小.研究了三种选择,第一、二种用弯铁和波荡器辐射.结果证明牛津仪器公司和其他公司...
评级：0 浏览量：83 收藏量：0 资源大小：578KB 上传时间：2021-02-11

: 大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22 nm及以下节点的下一代光刻技术，高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计满足22 nm产业化光刻机需求的极紫外光刻投影物镜，采用6枚高次非球面反射镜，像...
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: 紫外激光光刻经济合算紫外激光光刻经济合算
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: 极紫外投影光刻掩模阴影效应分析极紫外（EUV）投影光刻掩模在斜入射光照明条件下，掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸（CD）都将随入射光方向变化，即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿，得到了...
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