论文研究-射频反应磁控溅射制备VOx薄膜 .pdf

射频反应磁控溅射制备VOx薄膜，李建峰，吴志明，本文采用射频反应溅射法制备了VOx薄膜,重点研究了氧分压对薄膜电学性能的影响，在低真空中330 ℃低温退火得到了高性能的VOx 薄膜，制