论文研究-反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究 .pdf

反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究，戈占伟，张昱，本文研究了在低阻硅衬底上，采用纯铪与纯钇金属靶，氧气为反应气，采用新颖的反应磁控溅射法制备了钇掺杂氧化铪薄膜。并对制得的