论文研究-提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究 .pdf

提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究，张琳，，自对准分栅闪存具有较高的编程效率（Program Efficiency）及较低的擦除电压(Erase Voltage)，是目前闪存领域的研究重点。浮栅(Floating Gate)绝缘