论文研究 - 衬底对玻璃和硅衬底上沉积的CuS / PVA纳米复合薄膜的影响

通过化学路线沉积的过渡金属硫族化物纳米复合薄膜目前吸引了广泛的关注，其廉价，简单并且可用于大面积应用。 由于应变引起的性质改变和晶格失配，基底的作用在膜沉积以及控制其性质中变得非常重要。 使用溶胶-凝胶技术将CuS / PVA纳米复合薄膜成功沉积在玻璃和硅基板上。 薄膜通过X射线衍射（XRD），原子力显微镜（AFM），紫外可见光（UV-VIS）和拉曼光谱进行表征。 结构数据证实了成膜的非晶态性质，该成膜薄膜在200°C退火后转变为结晶膜。 与在玻璃基板上生长的薄膜相比，沉积在硅基板上的薄膜的结晶度似乎更好，玻璃和硅基板上沉积的薄膜的平均微晶尺寸分别约为4.00 nm和7.00 nm。 动态和接触模式下的原子力显微镜（AFM）图像显示嵌入聚合物网络中的纳米颗粒。 比较从AFM显微照片定量估计的薄膜表面粗糙度参数。 拉曼光谱显示在cm474 cm？1处有一个尖峰，该峰与在两个基板上生长的膜中的S2离子的SS拉伸模式有关，并且由于存在六方（共晶）晶体结构而相关。 玻璃和硅基板上的薄膜的光学带隙分别为2.10 eV和2.02 eV。 讨论了底物对所测性能的影响。