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KLA-Tencor推出45nm节点晶片几何度量解决方案
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2020-11-26
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KLA-Tencor公司推出了WaferSight 2,这是第一个让晶片供应商和芯片制造商能够以45nm及更小尺寸所要求的高精度和工具匹配度,在单一系统中度量裸晶片平面度、形状、卷边及纳米形貌的度量系统。凭借领先的平面度和纳米形貌测量精度,加之更高的工具到工具匹配度,WaferSight 2让晶片供应商能够率先生产下一代晶片,并让集成电路制造商对未来晶片质量的控制能力更具信心。 领先的光刻系统供应商的研究表明,在45nm工艺中,晶片平面度的细微差异会消耗高达50%的关键光刻焦深预算。在 KLA-Tencor公司WaferSight 1系统占据市场领先地位的基础上,WaferSigh
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weixin_38734200
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