光掩膜版一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮 光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上，是光刻工艺中 最重要的耗材之一。掩膜版作为模具，通过光刻技术将掩膜版上的电路图案复制到芯片或 液晶面板玻璃上，从而批量化生产集成电路或液晶面板等产品。光掩模版可按照组成与产品进行分类。光掩膜版主要由基板与遮光膜两部分组成，其 中基板可分为透明树脂基板和透明玻璃基板，透明树脂基板易于大型化，但是易变形，相 较而言玻璃基板更为常用，按照玻璃材质可细分为合成石英、硼硅玻璃和苏打玻璃三类； 遮光膜材料主要是乳胶遮光膜与硬质遮光膜两大类，硬质遮光膜可进一步细分为铬
