X射线光栅相衬成像存在系统复杂、成像效率低、步进精度要求高、光栅加工难度大等问题. 本文设计了.一种双能阵列X射线源和双能分析光栅, 并应用于X射线光栅相衬成像, 提出了一种双能X射线光栅相衬成.像系统, 阐述了该成像系统的成像原理和相位信息提取方法. 提出的成像系统不需要精密步进平台, 精简了.成像系统, 避免了步进误差导致的成像质量降低问题; 两次曝光就可以成像, 提高了成像效率; 双能阵列X射.线源、双能分析光栅的应用避免了源光栅、分析光栅难以加工的问题. 对提出的成像系统及其相位提取方法进.行了仿真, 仿真结果显示成像系统可以正常成像, 提取到的检测样本的X射线相衬成像相位一阶导数分布与.相关文献实验所得结果一致.
