6H-SiC单晶的中子辐照损伤及其退火特性研究


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用剂量为1.72×1019 n/cm2和1.67×1020 n/cm2的中子对掺氮6H-SiC单晶进行辐照,利用紫外-可见(UV-Vis)吸收光谱等方法研究了辐照引起的晶格损伤及随退火温度的回复过程。结果表明:中子辐照产生的大量缺陷使SiC的光吸收明显增加;光学带隙能随辐照剂量的增加而降低,这与禁带中引入的局域态缺陷能级有关。光吸收边出现强烈的连续吸收可能归因于辐照产生的不同类型缺陷簇或局部非晶区域的光散射。对两个剂量辐照的样品进行室温到1 600 ℃的等时退火,发现两个剂量辐照产生的晶格损伤所需的退火回复温度不同,但退火回复过程都呈现出以800 ℃为转折点的两个相同阶段。

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2021-01-25
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论文研究-6H-SiC衬底上SiCGe薄膜的生长特性研究 .pdf
2019-08-176H-SiC衬底上SiCGe薄膜的生长特性研究,林涛,李佳,采用低压热壁化学气相沉积法,在6H-SiC衬底(001)面上生长了不同温度(1100℃~1250℃),不同GeH4流量比(13.8%~44.
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6H-SiC衬底ICP图形化刻蚀技术研究
2020-03-126H-SiC衬底ICP图形化刻蚀技术研究,韩铭浩,申人升,通过电子束蒸发设备,在6H-SiC单晶衬底上蒸镀金属Ni做为掩膜图形,利用光刻技术获得图形化Ni掩膜。采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺
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mimo检测算法zf.zf-sic,mmse,mmse-sic性能matlab仿真
2015-05-10mimo检测算法zf.zf-sic,mmse,mmse-sic性能曲线的matlab仿真,实测可用
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6H-SiC晶片集群磁流变研磨工艺优化
2020-01-106H-SiC晶片集群磁流变研磨工艺优化,刘其,阎秋生,本文采用集群磁流变研磨方法对单晶6H-SiC基片进行研磨试验,以材料去除率和表面粗糙度为评价指标,分析了不同种类磨粒与羰基铁粉的
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论文研究-SiC单晶生长动力学模型和缺陷形成机制的研究 .pdf
2019-08-21SiC单晶生长动力学模型和缺陷形成机制的研究,徐伟,刘雪绞,近年来大直径SiC单晶体的生长是国内外研究的重点,SiC是一种宽带隙半导体材料、第三代半导体材料的代表。物理气相传输法(PVT)是生
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面向辐射探测应用的4H-SiC SBD器件电学性能仿真与优化
2019-12-26面向辐射探测应用的4H-SiC SBD器件电学性能仿真与优化 ,王伟,夏晓川,本文主要研究第三代宽带隙半导体4H-SiC材料制备的核辐射探测器a粒子辐射特性,利用Silvaco-TCAD软件进行了相关
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n型与半绝缘6H-SiC晶体的超快载流子动力学
2021-02-22利用带间激发的超快瞬态吸收光谱,研究了导电(n型)氮(N)掺杂和半绝缘(SI)钒(V)掺杂6H-SiC晶片的超快载流子复合动力学过程。N杂质和/或固有缺陷的间接复合主导了n型6H-SiC的载流子弛豫,
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高品质6英寸N型4H-SiC单晶生长研究
2021-01-26PVT法生长SiC单晶生长腔的温场分布是影响晶体质量的重要因素。采用数值模拟研究了保温层和坩埚结构以及线圈位置对6英寸SiC晶体生长温场的影响,优化出了适合高品质6英寸SiC晶体生长温场分布,在此条件
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Effect of SiC content on mechanical properties of ZrB2-SiC Nanocomposite
2020-01-08SiC含量对ZrB2-SiC 纳米复相陶瓷力学性能的影响,刘强,韩文波,A ZrB2-SiC nanocomposite that introduced nano-sized SiC particle
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高质量半绝缘150 mm 4H-SiC 单晶生长研究
2021-02-07高质量半绝缘150 mm 4H-SiC 单晶生长研究
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用Ag-Cu-Ti-SiC复合钎焊Cf/SiC陶瓷基复合材料与钛合金
2020-01-26用Ag-Cu-Ti-SiC复合钎焊Cf/SiC陶瓷基复合材料与钛合金,林国标,黄继华,用Ag、Cu、Ti粉及SiC粉组成的混合粉末钎料,真空钎焊Cf/SiC陶瓷基复合材料与钛合金,形成增强相为Ti3(
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碳化硅辐照效应研究
2013-08-28碳化硅辐照效应研究 6H-SiC研究 辐照效应
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ZrB2-SiC超高温陶瓷的氧化行为研究
2020-02-08ZrB2-SiC超高温陶瓷的氧化行为研究,刘爱东,陈海龙,研究了ZrB2 -SiC超高温陶瓷材料的700-1900℃的氧化行为。研究结果表明: ZrB2-SiC超高温陶瓷材料氧化层的形成与结构演化主要
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论文研究-SiC衬底GaN基蓝光LED理想因子研究 .pdf
2019-08-15SiC衬底GaN基蓝光LED理想因子研究,房硕,梁红伟,使用MOCVD系统在6H-SiC衬底上生长了GaN/InGaN量子阱结构蓝光LED外延片。在20mA电流下样品的正向电压为3.5V,中心发光波长
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6H-SiC同质外延层上Si
2021-02-10用化学气相淀积(CVD)的方法, 在6H-SiC衬底上同质外延生长SiC层, 继而外延生长了Si1-yCy合金薄膜, 用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、拉曼散射等方法对所得的样品进行了
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简单点缺陷对3C-SiC熔化过程影响的分子动力学研究
2019-12-28简单点缺陷对3C-SiC熔化过程影响的分子动力学研究,马梨,赵耀林,本文采用了Tersoff/ZBL势对3C-SiC熔化过程及简单点缺陷对3C-SiC熔化过程的影响进行了分子动力学(MD)模拟研究。研
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β-SiC微粉过滤分级实验研究
2020-06-26针对磨料微粉精细分级存在的困难,自行设计了过滤分级装置。研究了料浆浓度、原料粒度、滤层粒度和厚度以及横截面积对β-SiC微粉过滤分级结果的影响。实验结果表明:该分级装置可以实现亚微米粒径的精细分级,可
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论文研究-一种多链式结构的3D-SIC过硅通孔(TSV)容错方案.pdf
2019-09-07三维(3-Dimensional,3D)电路由于其更高的密度、更高的传输速率及低功耗的优点逐渐受到人们的重视和研究,而硅通孔(Through Silicon Via,TSV)技术是三维电路中互联上下层
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MIMO系统中ZF-SIC均衡算法
2016-12-10为了解决MIMO中的码间串扰问题,采用改进的ZF-SIC算法惊醒均衡。结果显示为采用均衡算法与为采用均衡算法,误码率随着信噪比增加而增加的图像。
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4H-SiC MESFET特性对比及仿真
2020-10-16通过对双凹栅结构和阶梯栅结构4H-SiC MESFET的直流特性对比,得出阶梯栅结构的直流特性优于双凹栅结构。对阶梯栅结构进行极限化处理后,引出了坡形栅4H-SiC MESFET的结构及其特征参数EP
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AlN/Si(111)复合衬底上4H-SiC薄膜的阴极荧光特性
2020-01-29AlN/Si(111)复合衬底上4H-SiC薄膜的阴极荧光特性,吴军,韩平,本工作利用化学气相淀积(CVD)方法在AlN/Si(111)复合衬底上成功异质外延生长了4H-SiC薄膜;用X射线衍射(XR
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论文研究-Super junction结构4H-SiC同质外延生长和肖特基器件制备 .pdf
2019-08-23Super junction结构4H-SiC同质外延生长和肖特基器件制备 ,宋庆文,张玉明,基于水平式低压热壁化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition- CVD)生长系统,采用
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论文研究-SiC衬底倾角对MOCVD生长GaN外延层质量的影响 .pdf
2019-08-16SiC衬底倾角对MOCVD生长GaN外延层质量的影响,宋琳,梁红伟,利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法,在相同的条件下在不同倾角的Si面6H-SiC衬底上生长GaN外延层。采用原子力显微镜(
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无限微热源法合成的β-SiC晶须与颗粒的分离
2020-06-26对无限微热源法合成的β-SiC晶须(β-SiCw)和颗粒的特性进行了分析和比较,在此基础上对各种分离方法进行了实验。结果表明,湿筛和自由沉降分级可使β-SiCw富集于0~60μm粒级的产品中,品位从1
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High-temperature strength of ZrB2-SiC composites
2020-02-25ZrB2-SiC复合材料高温强度,张幸红,胡平,本文研究了颗粒尺寸和SiC含量对ZrB2-SiC复合材料高温强度的影响。研究结果表明该材料的强度主要取决于颗粒的尺寸大小。含有小晶粒尺�
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新型Ni-SiC复合镀层的制备及性能的研究
2020-02-05新型Ni-SiC复合镀层的制备及性能的研究,胡炜,谭澄宇,本文利用电沉积法,通过调控电镀工艺,制备出具有一定梯度的新型Ni-SiC复合镀层,显微硬度测试表明:复合镀层的硬度比纯镍金属硬度
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An investigation of terahertz response in monocrystalline 6H-SiC for electro-optic sampling
2021-02-11An investigation of terahertz response in monocrystalline 6H-SiC for electro-optic sampling
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新型煤气化载能材料的质量研究
2020-06-17利用自行设计的新型煤气化炉,实现了不同碳质原料的气化实验.分析了气化对载能材料的纯度、晶体形态及产量的影响,研究了烟煤的高温孔隙结构和焦炭的高温表面碳微粉对6H-SiC多型含量的影响,指出气化对载能材
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AlN缓冲液对6H-SiC衬底上生长的GaN薄膜物理性能的影响
2021-03-03在这项研究中,通过金属有机化学气相沉积法在6H-SiC衬底上制备了具有AlN缓冲层的1.5微米厚的GaN膜。 为了确定AlN缓冲液的生长条件对GaN薄膜的晶体质量和应力状态的影响,进行了两个系列的实验
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2019-09-05开源项目-eduncan911-sic2lp.zip,SafeInCloud -to- LastPass Converter: Now that LastPass is free, finally a
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