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GaAs/SiO
GaAs/SiO
GaAs
光谱性质
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采用射频磁控共溅射与高真空退火相结合的方法, 分别在单晶硅片和光学石英玻璃片上制备了GaAs/SiO
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疏水性SiO
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在SiO2溶胶合成阶段进行化学改性,将六甲基二硅氮烷(HMDS)引入SiO2溶胶,制得稳定的胶体,胶体中SiO2纳米颗粒表面的亲水性Si-OH基团被疏水性的Si-O-Si(CH3)3基团取代。采用旋转法在磷酸二氢钾(KDP)晶体表面涂膜,涂膜晶体峰值透射率99%以上。膜层光学均匀性良好,表面粗糙度均方根值为0.94 nm。膜层疏水性能好,水接触角达到140°。涂制疏水性SiO2基减反膜的KDP晶体
SiO
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研究了不同尺寸SiO2胶体微球形成纳米结构薄膜的光学传输特性和光子带隙。通过在玻璃基底上自组装透光的SiO2胶体微球形成胶体晶体薄膜, 依据布拉格定律,分析微球尺寸对胶体晶体光子带隙的影响。为实现可见光波段的全方位减反射,提出通过改变胶体粒径将胶体晶体带隙位置移动至紫外波段,理论计算得出当粒径为112 nm,占空比为0.45时能实现可见光波段0.5%的平均反射率。实验结果表明,玻璃基底在400~8
日本对GaAs二极管传送电视的研究
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Lasing characteristics of Yb-doped gadolinium yttrium mixed oxyorthosilicate Yb:(Gd0.1Y0.9)(2)SiO5
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被动调Q锁模激光特性是通过使用400微米厚的GaAs晶片作为可饱和吸收体实现的,研究得到了最小脉冲持续时间为60.2纳秒,重复频率为47.6千赫兹,对应的最高脉冲能量和峰值功率分别为5.3微焦耳和88瓦特。被动调Q锁模技术...
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半导体激光器像散的实验研究
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本篇文献的标题为《半导体激光器像散的实验研究》,实验研究的对象是被质子轰击的条形GaAs/GaAlAs双异质结半导体激光器(DHLD),目的在于探究其像散特性。像散现象是指激光束在空间分布中,沿某一方向的发散情况,...
半导体激光器端面镀膜厚度的有效监控 (1989年)
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薄膜材料与薄膜技术复习题.docx
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