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光刻产生微型光学成像系统
光刻产生微型光学成像系统
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王国雄a,王雪洁b (浙江大学a.超大规模集成电路设计研究所;b.城市学院信息与电子工程分院,杭州310027) 摘 要:通过对光刻系统中光学成像系统的模拟,提出了改善光刻分辨率的途径以及基于卷积核的计算光强的方法,并介绍了光学系统的传输交叉系数具体计算过程。建立准确描述由于掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸变化的光刻工艺模型,有助于开发由成品率
投影光刻机光学系统的总体设计
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本文从投影光刻机的图形传递要求出发,导出投影光刻机各主要光学系统的具体要求,并讨论这些参数确定的局限性。
微细光刻中部分相干系统成像研究
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很好的资源,对于视频拼接有着很好的帮助。为你开发相关的项目提供参考
i线投影光刻曝光系统的光学设计
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叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足i线光刻所需的光学传递函数要求,讨论了光刻分辨率和数值孔径的关系。设计了一种新的双远心投影物镜,其数值孔径NA=0.42,放大倍率M=-1/5,像场尺寸15 mm×15 mm(直径21.2 mm),共轭距L=602 mm。用光学设计程序ZEMAX-XE计算此i线物镜的像质。设计结果说明,整个视场内波差0.55,当空间频率为
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