结合傅里叶变换合成法设计均匀薄膜

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基于傅里叶变换合成法的基本原理, 合成了一个K9基底上的负滤光片, 合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性, 但实际制备难度很大, 因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜, 由于实际薄膜材料种类有限, 不能获得任意折射率膜层, 鉴于两层高低折射率薄层可近似为一层中间折射率膜层的思想, 将膜系转化成一个可实际制备的膜系结构:膜系采用ZrO2和SiO2两种膜料, 膜层总数为183层, 经单纯形调法优化后, 膜层总厚度为7.09 μm, 通带和截止带内平均透射比分别为97.56%和3.13%, 其结果优于直接采用傅里叶方法合成的非均匀膜系, 与期望透射比曲线吻合更好。说明通过这种思想设计任意光谱特性的膜系是可行的, 也使傅里叶变换合成法设计的薄膜实际制备成为可能。

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