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unity项目优化,代码优化,内存优化等,讲的还是比较详细的,有兴趣的可以看一下
遮挡剔除的设置步骤 (1)在场景中选择所有你希望应用遮挡剔除的场景物体,在检视面板( Inspector)中,选择右上角 的 Static选项,将其中的 Occlusion static和 Occludee static打上对钩。 Inspector v skyscrapers □ Static Tag Unta Nothing Mode□ Everyth ightmap Static Tran√ Occluder static Position Batching Static X O Navigation Static Rotation Occludee static X 0 off Mesh Link generation Scale X 1 Y1 物体全影技术需要考虑两方面因素:静态遮挡物( occluder)和静态被遮挡物( occ ludee)。前者定义于几 何学的角度,全影技术会将它们构建成单一、稳定的模型;后者定义于可见性的角度,全影技术通常会通 过遮挡数据对其进行测试。从几何学角度来讲,遮光物是由大量的带有“0 occluder static”标识的设置组 成的,而被遮挡物体的标识则是“0 ccludee static” 一个经验法则,默认情况卜,如果不是所有的渲染器作为被遮挡的物体,你最好预先设定好大多数配置, 以便丁在全影技术下可以自动剔除不必要的景物。同样,也是在默认的情况下,多数的静态渲染器( static renderers)都可以作为遮光物,只要确保你的渲染器不是透明的即可, 但是,如果物体的缝隙很小(像是浓密的植物),你又想透过它们看到景物,只是减小这些缝隙的最小值是 没有用的,而应该从渲染器中移除这些遮挡标识( acc luder flag) (2)使用遮挡易除窗口( Window-> Occlusion Culling)冉点击Bake->Bake Oculus ion bject ake Visualization Scene filter Ep AllRenderers cclusion粪reas ai Plane361 (Mesh Renderer) Occluder Static Occludee static Clear Bake ast bak Ddld size un alisk I4MB Static pys data size Dynamic culling data size 0.9MB 2.LOD细节层次( Levels of detail,简称)模型 的概念 它的好处是可以在适当的时候大量减少需要绘制的顶点数目。它的缺点同样是需要占用 更多的内存,而且如果没有调整好距离的话,可能会造成模拟的突变。 实现的原理就是根据摄像杋与物体距离的稈度来选择当前显示什么精度的模型 首先,如果你想这样做的话,你需要有不同精度的模型,高模低摸等等 然后第一步:在场景中选择一个你希望在不同的距离显示不同精度模型的物体,这里我们为了使 于观察,就用一个方块和圆柱举例说明 排 Scent Game exture RGB 2D米+Eect= Persp 第二步:选择一个物体使用技术,我们就选择圆柱为例吧,单机圆柱,然后点击 。第二步添加组件就完成了 I Component Window Help Add Ctrl shift+a Mesh Rendering Camera Miscellaneous Flare Layer Event GUILayer Light Probe Gi Occlusion Area Occlusion portal LOD Group Sprite Renderer Canvas Renderer GLJTTexture 第三步:现在,当你再点击圆柱的 面板的时候,你会发现它多了一个 组件 我们接下来就要在这个组件里进行操作了,首先解释一下:,那些就是摄像机的档位 他们与物体的距离,能清楚的看到有个档位,种颜色,绿色是最近的时候,红色是最远的时 候,现在我们自己来设置一个需求,就是档的时侯显小圆柱,档的时候显小方块,剩下两个 档位先不做试验了。 O InspectorgOcclusion Center 0 Radius 0,5 Height DIrection Y-Axis EX V Mesh Renderer Cast shadows Receive shadows V Materials Use Light Probes T Y LODGroup Q LOD:cUlled 100% 30% 10% 36% LODBias of 1. o0 active Renderers Add Recalculate:「 Bounds「 Lightmap Scale Default-Diffuse 0 第四步:根据上面的需求,档的时侯,需要显示圆柱,首先点那个,会得到提示 选择圆柱即可 Select renderer Assets Scen N one Cube Cylinder Plane 选择完成后档位的下面会出现一个圆柱图标,意思是,在这个档位的时候只显示圆柱。 思√ Mesh Renderer Cast shadows Receive shadows Materials Use Light Probes √ LODGroup 春 LODI O ODH 1 Culed 100 50% 30% 10% 63% LODBias of 1. oo active Renderers Add Recalcula量 Bounds Lightmap Scale efault-Diffuse 那么现在该在档位重复这个操作,添加一个方块了。 . T V LOD Group LOD:0 LOD:1 D:2 100%60% 30% 1自% LODBias of 1.00 active Renderers Add Recalculate: Bounds Lightmap Scale 最后点击一下 生效就可以了 第五步:这个时侯调节摄像机的值(当然如果我们物体摆放的向不同的话,你可能需要调节 或者的值),你会发现现在会根据摄像机和添加了 组件物体的距离来判断该显示 什么样的模型,比如我们的方块是低摸的话,这个时候距离远了就会显示低摸的模型了,当然为 了测试我们只是使用了方块便于观察而已 E Gdnt B Inspecto u Oc clusIA Maviniza on Elay Stats Gismos- v Main Camera Tag Ma camera: La 2 Clear Flags skybox d of view clipping aras Near Viewport Rcct x 0 scene E Game iNspector Occlusio ee Aspect Maximize on Play Stats Gizmos v Main Camera ain wamer彐 Transform Ratation X395702 X 1 Fsv Camera sEybo Background Cul ing mask EYI ProJection eld of view clipping Planes Near d port REC W 1 Rer dering Fat Use P 减少实时光照的使用 例如·个场景里如果包含了多个逐像素的点光源(平行光也是逐像素模式),而且使用 ∫逐像素的 ,那么很有可能脊 提高∫好几倍,同时也会增加 这是因为,对于逐像素的光源来说,被这些光源照亮的物体要被再渲染一 次。更糟糕的是,无论是动态批处理还是静态批处理(不知道为什么实验结果对静态批 处理也没有用),对于这种逐像素的都无法进行批处理,也就是说,它们会中断 批处理 我们看到很多成功的移动游戏,它们的画面效果看起来好像包含了很多光源,但其灾这 都是骗人的。 3.使用 Lightmapping 使用 技术可以实现实时光照对物体产生的阴影效果 具体步骤: 首先场景中需要有光源来照射物体,使其产生阴影,可以使用点光源进行照射 将产生阴影的物体设置成静态, (勾选上,在右上角) 点击 Window Help Next window Ctrl+ tab Previous Window Ctrl+shift+tab Scene Ctrl+1 Game Ctrl+2 Rs Ctrl +3 Hierarchy Ctrl +4 e Ctrl+5 Animation Ctrl+6 Profiler Ctrl+7 A Ctrl +g Version contre Ctr+o Animato Sprite Packer ghtma pping Occlusion Culling Navigation Console Ctrl+shift+c 最后点击右卜角的 就了 Lightmapping Object Ba Scene filter 旷A· ights F Renderers Terrains Select a Light, Mesh Renderer or a Terrain fram the ene Clear Bake Scene 4. Mesh baker 主要作用是合并网格和贴图 下载链接 密码: 导入 Mesh baker的 un i typackage包后,可以在 unity工程中的 GameOb ject> Create Other〉 Mesh baker里面找到三个主要的烘培功能,在一般情况下选择 Mesh And Mater ia baker即可处理大多数的模型,其他两个功能分别是多网格物件的材质的 烘培( Multi- mesh Anb Mater ia baker)与材质烘培( Materia baker)。

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