集成电路芯片工艺之蚀刻篇

集成电路，蚀刻，12'晶圆代工工艺流程。

半导体湿蚀刻讲解

半导体湿蚀刻讲解

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半导体蚀刻技术学习资料，新手了解半导体蚀刻工艺、材料、制程的ppt学习资料，值得推荐的好文档，介绍蚀刻、光刻原理等。

反应离子蚀刻（RIE）

本文介绍了玻璃微加工的工艺，包括喷砂，湿法蚀刻，反应离子蚀刻（RIE）和玻璃回流技术。根据实验介绍并讨论了每种方法的优缺点。喷砂和湿法蚀刻技术是简单的工艺，但是在小而高纵横比的结构中却面临困难。演示了

原子层沉积（ALD）和原子层蚀刻（ALE）工艺讲解

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TFT液晶制造制程技术革新讲解

　　TFT液晶面板的制造工程一般被分为3个部分。最初的工程被称为TFT Array制程，在玻璃基板上置入薄膜晶体管和驱动所需的电路。这个工程需要重复上光阻、微影、蚀刻，才能在玻璃基本上形成Array电

干法和湿法蚀刻-等离子蚀刻和湿法蚀刻的优缺点

干法和湿法蚀刻-等离子蚀刻和湿法蚀刻的优缺点 蚀刻是从材料表面去除材料的过程。蚀刻的两种主要类型是湿蚀刻和干蚀刻（例如，等离子体蚀刻）。涉及使用液体化学药品或蚀刻剂去除基板材料的蚀刻工艺称为湿蚀刻。在

蚀刻工艺YES蚀刻过程分为两类：

为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类： 浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻 干蚀刻，其中使用反应性离子或气相蚀刻剂溅射或溶解材料 在下文中，

嵌入式系统/ARM技术中的新研发实验室单芯片，功能强大！

美国加州大学洛杉矶分校(UCLA)的研究人员表示，他们所研发的微流体实验室单芯片(microfluidic lab-on-a-chip)技术，可同时执行1,000笔测试，这样就缩短了大量的时间。   

自制电路板蚀刻液配方

自制电路板蚀刻液配方 多种蚀刻液配方比较，选择适合你的配方 制作你的电路板吧

半导体制程培训CMP和蚀刻.pptx.zip

半导体制程培训CMP和蚀刻讲解了半导体制造工艺流程——刻蚀。化学机械平坦化 （Chemical-Mechanical Planarization, CMP），又称化学机械研磨（Chemical-Mec

Pi蚀刻2#机

Pi蚀刻2#机条件速度参考（品名）.xlsx

圆管外表面电解蚀刻机床仿真分析与优化

圆管外表面电解蚀刻机床仿真分析与优化，陈远龙，杨维国，根据对具有{111}晶向(轴向)的钼单晶基体化学气相沉积(CVD)钨单晶涂层为材料的薄壁圆管零件电解蚀刻工艺要求，设计了一套电解蚀刻系统

嵌入式系统/ARM技术中的DScreen研制出晶圆端面的高精度蚀刻清洗技术

据报道，日本DAINIPPON SCREEN MFG的半导体设备公司开发出了高精度清除附着于晶圆斜面（端面及其邻接倾斜部分）的金属膜的蚀刻清洗技术“Bevel Etching Chamber（BEC）

专用芯片技术中的芯片的设计制造，大体分这三个阶段

一颗高性能芯片在区区数百平方毫米的硅片上蚀刻数十亿晶体管，晶体管间的间隔只有几十纳米，需要经过几百道不同工艺加工，而且全部都是基于精细化操作，制作上凝聚了全人类的智慧，是当今世界上最先进的工艺、生产技

图形电镀与蚀刻工序培训教材.rar

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PCB技术中的印制电路板的蚀刻设备和技术

印制电路板的蚀刻可采用以下方法: 　　1 )浸入蚀刻; 　　2) 滋泡蚀刻; 　　3) 泼溅蚀刻; 　　4) 喷洒蚀刻。 　　由于喷洒蚀刻的产量和细纹分辨率高，因此它是应用最为广泛的一项技术。 　　1

二氧化硅的湿蚀刻简介

SiO2膜在微技术中具有两个主要作用：作为介电层或作为掺杂/蚀刻掩模。在这两种情况下，通常都需要图案化。当在高温烘箱中通过硅衬底的氧化获得时，SiO2被称为“热”。否则，它可以通过化学气相沉积（CVD

PCB技术中的印制线路板含铜蚀刻废液的综合利用技术

适用范围 印制线路板制造业发达地区集中开展含铜蚀刻废液综合利用。 主要技术内容 一、基本原理 将印制线路板碱性蚀刻废液与酸性氯化铜蚀刻废液进行中和沉淀，生成的碱式氯化铜沉淀用于生产工业级硫酸铜；沉淀压

湿蚀刻YES

湿蚀刻是光刻之后的微细加工过程，该过程中使用化学物质去除晶圆层。晶圆，也称为基板，通常是平面表面，其中添加了薄薄的材料层，以用作电子和微流体设备的基础；最常见的晶圆是由硅或玻璃制成的。湿法刻蚀是半导体

硅片蚀刻机二

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印制电路板的蚀刻设备和技术

印制电路板的蚀刻可采用以下方法: 　　1 )浸入蚀刻; 　　2) 滋泡蚀刻; 　　3) 泼溅蚀刻; 　　4) 喷洒蚀刻。 　　由于喷洒蚀刻的产量和细纹分辨率高，因此它是应用为广泛的一项技术。 　　1

PCB技术中的PCB加工之蚀刻质量及先期问题分析

在PCB的设计和加工方面，深圳捷多邦科技有限公司有着自己的优势。在对PCB加工之蚀刻质量及先期问题分析方面，捷多邦的工程师认为对蚀刻质量的基本要求就是能够将除抗蚀层下面以外的所有铜层完全去除干净，止此

印刷电路板之微蚀刻与清洁

这个是电路板的资料，希望对大家有用吧。印刷电路板之微蚀刻与清洁，我好笨，写这么多多都不知道怎么写才超过二十字。

电化学蚀刻金属双极板表面流道的研究

电化学蚀刻金属双极板表面流道的研究，梁丙炎，王新东，双极板是质子交换膜燃料电池中的关键部件之一,占电池组质量和成本的很大部分, 具有隔离并均匀分配反应气体、收集并导出电流、串联

下一代光刻技术突破传统的光刻技术障碍

EUV蚀刻技术使最小线宽达30nm 全球第一款利用远紫外线(extreme ultra vio-let EUV)蚀刻技术制造计算机芯片的完整设备原型机近日在美国问世。这个命名为：“工程试验支架”(ET

显示/光电技术中的LED芯片的制造工艺流程简介

LED 芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序（Wafer Fabrication）、晶圆针测工序（Wafer Probe）、构装工序（Packaging）、测试工序（Initial Test andFi

硅片蚀刻机操作展示

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薄膜中去除材料的技术

在半导体器件的制造中，蚀刻是指将选择性地从衬底上的薄膜中去除材料的技术（在其表面上有或没有先有结构），并通过这种去除在衬底上形成该材料的图案。该图案由耐蚀刻工艺的掩模限定，该掩模的产生在光刻中详细描述

PCB技术中的印制电路喷淋蚀刻精细线路流体力学模型分析

摘要：在印制电路制作过程中，蚀刻是决定电路板最终性能的最重要步骤之一。所以，研究印制电路的蚀刻过程具有很强的指导意义，特别是对于精细线路。本文将在一定假设的基础上建立模型，并以流体力学为理论基础进行喷