innovus 的基本使用流程和命令

Innovus是一款先进的物理实现工具，广泛用于集成电路（IC）设计的Place and Route（P&R）阶段。以下是对Innovus基本使用流程和命令的详细解释： 1. **文件准备**： - **工艺库文件**：`.lib`，`.lef`，`.ict`，`.map`和`.capTbl`都是来自Foundry的重要文件，它们提供了工艺参数、库信息、电容表和时序数据。 - **门级网表**：`.v`文件是逻辑综合后的结果，它描述了设计的门级表示。 - **时序约束**：`.sdc`文件定义了设计的时序约束，通常由数字前端提供。 - **IO/PAD布局**：`.io`文件用于指定输入/输出端口的位置，可以手工编写或通过Innovus自动生成并修改。 - **标准单元LEF**：`.lef`文件包含了标准单元的布局信息，包括天线规则。 - **工艺LEF**：包含布线层、DRC和天线规则等信息。 - **非标准单元LEF**：对于包含非标准单元的设计，需要相应的LEF文件。 - **MMMC.view**：定义时序和信号完整性分析的多模多角环境。 2. **MMMC配置**： - 使用Innovus时，首先需要导入设计并设置Library Sets，例如`fast_lib_set`和`slow_lib_set`，分别对应不同的工作条件（电压和温度）。 - **添加Library Set**：在Name中输入自定义名称，然后添加对应的`.lib`文件，确保选择的库文件匹配设计的工作条件。 3. **操作流程**： - **启动Innovus**：在新建文件夹中打开Innovus，避免使用`&`字符以保持命令行操作的便捷性。 - **导入设计**：使用`File → Import Design`，然后通过`Design Import`页面和`MMMC Browser`配置库文件。 - **设置Timing Library**：根据设计的工作电压和温度，选择合适的`.lib`文件作为Timing Library File和SI Library File。 - **保存配置**：确保所有配置正确无误后保存，以便后续使用。 4. **Innovus命令**： - Innovus支持命令行和图形用户界面（GUI）操作，命令行模式更灵活高效。一些基本命令包括： - `import_design`：导入设计。 - `set_parameter`：设置参数。 - `run`：执行特定任务，如物理实现、时序分析等。 - `report_timing`：生成时序报告。 - `write_checkpoint`：保存当前设计状态到checkpoint文件。 - `read_checkpoint`：恢复之前保存的设计状态。 5. **物理实现**： - 在配置完成后，Innovus将进行单元放置（Placement）、全局路由（Global Routing）、详细路由（Detailed Routing）等一系列步骤，最终生成网表和GDSII文件，用于制造芯片。 6. **后处理**： - 完成P&R后，通常需要进行DRC（Design Rule Check）和LVS（Layout vs Schematic）检查，确保设计符合工艺规则，并且布局与逻辑相符。 7. **优化**： - 根据时序报告，可能需要对设计进行迭代优化，例如使用`opt_design`命令进行逻辑优化，或使用`place_design`进行重新放置，以满足时序约束。 通过以上步骤，可以全面了解Innovus的基本使用流程和命令，从而有效地进行物理实现工作。在实际操作中，还需要根据具体的设计需求和Foundry提供的详细指导进行微调。