光刻机重中之重，前道设备居首位。光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、
镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，在制造设
备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环
境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的
明珠。
冲云破雾，国产替代迎曙光。目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断
,CR3高达99%。在当前局势下，实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义
。在02专项光刻机项目中，设定于2020年12月验收193纳米ArF浸没式DUV光刻机，
其制程工艺为28纳米。考虑到此项目作为十三五目标，未来具有较大的明确性，结合
28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势，我们认为光刻机国产替代将迎来新
的曙光，尤其是IC前道制造领域，将初步打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1
的突破。
按图索骥，追根溯源寻标的。通过对即将交付的28nm光刻机进行剖析，建议关注以
举国之力助力国产替代的光刻产业链，一是光刻机核心组件：负责整体集成的上海微
电子、负责光源系统的科益虹源，负责物镜系统的国望光学，负责曝光光学系统的国
科精密，负责双工作台的华卓精科，负责浸没系统的启尔机电；二是光刻配套设施：
包括光刻胶，光刻气体，光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等。
