光刻机ASML内部培训资料 介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理

preview
共3个文件
zip：3个
ASML光刻机
芯片制作原理
star 3星 · 超过75%的资源 需积分: 45 246 下载量 111 浏览量 2020-09-25 15:25:58 上传 评论 41 收藏 488.56MB ZIP 举报
资源详情
资源评论
评论 收藏
cjlusun55
  • 粉丝: 12
  • 资源: 11
上传资源 快速赚钱
voice
center-task 前往需求广场，查看用户热搜

相关推荐

mp4

Asml光刻机及工艺介绍

Asml光刻机及工艺介绍
mp4

ASML光刻机介绍

ASML光刻机介绍
rar

内部培训流程说明

内部培训流程说明以规范化构造端到端的卓越业务流程为中心，致力于打造最强、最好的内部培训流程说明，欢...该文档为内部培训流程说明，是一份很不错的参考资料，具有较高参考价值，感兴趣的可以下载看看
pdf

ASML Scanner 光刻机介绍

ASML Scanner 光刻机介绍
star 5星 · 资源好评率100%
pdf

光刻技术概述，中科大内部课程，内容详尽

主要内容： 本课程围绕超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，陈 述与之相关的理论、设备、材料、测量与控制等。为了适应当前先进光 刻的需求，本课程会重点讲述在14nm及以下节点广泛使用的计算光刻、 分辨率增强技术以及设计-工艺联合优化技术等。 • 授课目标： 掌握光刻技术的原理，对计算光刻技术进行深入研讨 • 授课对象： 微电子学与固体电子学专业，集成电路制造专业研究生
star 5星 · 资源好评率100%
pdf

超大规模集成电路先进光刻理论与应用.pdf

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺。在设备部分，对业界使用的主流设备进行剖析，介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分，介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜等材料的分子结构、使用方法，以及必须达到的性能参数。本书按照仿
star 5星 · 资源好评率100%
pdf

基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术

提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上，硅片显影后，由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息，根据对准位置信息计算得到视场中各点的焦深。与传统的FEM焦深测试技术相比，该技术具有测量精度高、速度快、成本低、操作简单等优点，在光刻工艺参数优化及光刻设备性能评价等方面有很好的应用前景。
doc

紫外光刻机说明书

紫外光刻机使用及维护指南。感谢您购买本所设备，使用前请仔细阅读本说明书！
pps

ASML内部资料 传递函数描述

荷兰ASML光刻机公司内部控制类PPT资料 介绍传递函数计算描述 开环,闭环，灵敏度传函的定义；伯德图的matlab绘制
star 5星 · 资源好评率100%
ppt

IT战略规划-架构设计报告.ppt

IT战略规划-架构设计报告.ppt
pdf

光刻机行业报告：ASML专题

2018年，ASML正式跨入百亿收入俱乐部。2019年ASML总营收为118.20亿欧元，同比增长 8%；扣非后归母净利润为25.92亿欧元，同比增长0.03%。公司盈利能力强劲，并且持续多年。2019年ROE、销售毛利率、销售净利率分别为 21.39%，44.67%，21.93%。光刻机的发展需要强大的研发支持。公司的研发费用常年维持在10亿欧元以上，占收入比例 在13%以上。2019年，公司的
docx

光刻机企业ASML专题研究报告.docx

光刻机企业ASML专题研究报告.docx
pdf

基础电子中的接触式／接近式光刻机

对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5 gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要复制到衬底上的所有芯片阵列图形。在衬底上涂上光刻胶，并被安装到一个由手动控制的台子上，台子可以进行X、y方向及旋转的定位控制。掩模版和衬底晶片需要通过分立视场的显微镜
doc

光刻机传输分系统控制.doc

本文档是荷兰光刻机公司ASML的内部硅片传输分系统的控制系统设计文档，对了解光刻机内部知识以及控制系统设计有较大的帮助
doc

光刻机（NIKON）的设计与结构

光刻机（NIKON）的设计与结构
pdf

ASML SECS Manual

ASML SECS Manual,对于Semi Standard的学习非常有帮助
star 5星 · 资源好评率100%
pdf

硅超大规模集成电路工艺技术——理论、实践与模型(英文版)

硅超大规模集成电路工艺技术——理论、实践与模型(英文版)
star 5星 · 资源好评率100%
pdf

光刻永恒

(ASML, China 技术行销经理)摘 要：由于新近的技术突破，先前应用瓶颈在光刻领域得到解决方案。如今浸没式氟化氩(ArF)光刻技术已经被ITRS列为45nm，甚至于32nm节点的关键技术。如果要达到路图指标，新的介面液体，偏振光应用都需要继续研发。实验室的数据也证实了这些理论。光刻技术可望继续被延伸到2010年。 关键词：浸没式光刻,高折射率液体,偏振光源辅助成像,TM,TE1 前言 正当
application/pdf

超大规模集成电路与系统导论

本书介绍了CMOS数字大规模集成电路与系统设计的基础。全书分为三部分，第1部分介绍集成电路的逻辑与物理层设计，其中包括CMOS静态门的逻辑设计与信号控制、芯片生产与制造工艺、版图设计与CAD工具。第2部分讨论CMOS电子电路，介绍MOSFET的特性和开关模型、各类逻辑电路包括高速CMOS逻辑电路，同时介绍分析逻辑链延时的经典方法和新方法。第3部分为VLSI的系统设计，介绍Verilog® HDL
star 5星 · 资源好评率100%
zip

半导体设备之ASML：EUV光刻机需求强劲，经营业绩再创历史新高.zip

半导体设备之ASML：EUV光刻机需求强劲，经营业绩再创历史新高
pdf

22nm光刻技术前景

综述了当前最为先进的22nm光刻技术，并且对总的集成电路设计流程进行了介绍！
ppt

光刻与刻蚀工艺.ppt

“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。 “刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。
star 5星 · 资源好评率100%
application/pdf

超大规模集成电路技术 工艺评价.pdf

超大规模集成电路技术 工艺评价.pdf，欢迎学习与交流。
pdf

光刻

光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺（图4.7）。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。被除去的部分可能形状是薄膜内的孔或是残留的岛状部分。 光刻工艺也被称为大家熟知的Photomasking, masking, photolithography, 或microlithography。在晶圆的制造过程中，晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶圆表面或
pdf

ASML_Reticle_manual_Final_2007

ASML 2007出版的光罩操作手册，内容详尽，4x和5X都有涉及，对于刚入门的光刻工艺工程师（litho PE）应该有所帮助
doc

ULTRATECH_STEPPER_1100步进光刻机操作指导书

pdf

半导体制造设备机型说明书

半导体制造设备机型腔体设计的说明书，薄膜设备，镀膜设备
star 5星 · 资源好评率100%
pdf

光刻机使用方法，数据参数等等

光刻机的介绍，明细，各种使用方法等等
star 5星 · 资源好评率100%